羥基磷灰石膜層及粉體的制備研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本論文運(yùn)用微弧氧化技術(shù),以醋酸鈣和磷酸二氫鈉為反應(yīng)物,在純鈦表面制備了鈦基羥基磷灰石陶瓷膜層。在電解液中添加了不同的表面活性劑,研究了添加表面活性劑對制備陶瓷膜層的影響。得到的膜層經(jīng)過掃描電子顯微鏡(SEM)、x射線能譜儀(EDS)分析檢測, 結(jié)果表明,添加表面活性劑后,所制備的鈦基羥基磷灰石膜層中鈣磷比率明顯提高,膜層中的鈣和磷的含量也有明顯增加。通過向電解液中添加SiO2、CuO、Ag2O粉體,制備了含有Si、Cu、Ag元素

2、的鈦基羥基磷灰石膜層。通過掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線能譜儀(EDS)、X射線衍射儀(XRD)分析發(fā)現(xiàn),Si、Cu、Ag元素被成功添加進(jìn)了膜層,體現(xiàn)出微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢。利用溶膠凝膠法制備出了羥基磷灰石粉體,對所得樣品進(jìn)行了高倍視頻顯微儀觀察、X射線衍射儀(XRD)和透射電子顯微鏡(TEM)檢測,研究不同煅燒溫度以及添加不同的分散劑對顆粒粒徑大小及分布的影響。 通過實(shí)驗(yàn),得到了理想的羥基磷灰石粉體制備工藝參數(shù),由此可得到結(jié)晶

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