氣體擠壓膜懸浮平臺(tái)的性能分析.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、氣體擠壓膜懸浮平臺(tái)是利用壓電陶瓷晶體沿法線方向的高頻振動(dòng),使壓電陶瓷晶體與被支承面之間的氣體不斷受到擠壓,從而形成壓力氣膜,產(chǎn)生承載能力的支承元件。此平臺(tái)具有摩擦小,無污染,產(chǎn)生熱量小,運(yùn)動(dòng)精度高等優(yōu)點(diǎn),可用于精密儀器以及微電子加工行業(yè)。研究和分析該平臺(tái)的可行性及使用性能具有很大的意義。 本課題首先建立了平臺(tái)的完全動(dòng)態(tài)氣膜數(shù)學(xué)模型,然后采用數(shù)值差分方法對(duì)模型進(jìn)行化解,運(yùn)用FORTRAN語言編程,得到氣體擠壓膜的壓力分布、承載能力

2、、剛度及阻尼等靜、動(dòng)態(tài)參數(shù)與壓電陶瓷的尺寸半徑、驅(qū)動(dòng)頻率、氣膜初始膜厚等參數(shù)之間的相互關(guān)系 。 在理論分析的基礎(chǔ)上,論文還設(shè)計(jì)并制作完成了能夠?qū)崿F(xiàn)頻率調(diào)節(jié)、性能測試功能的驅(qū)動(dòng)電路;對(duì)壓電晶體的振蕩和頻率進(jìn)行了測試工作,并對(duì)平臺(tái)的制作工藝進(jìn)行了初步研究。 分析結(jié)論表明,論文提出的氣體擠壓膜平臺(tái)可以形成具有一定膜厚和壓力的擠壓氣膜,并且在一個(gè)激勵(lì)時(shí)間周期內(nèi),隨著晶體半徑和激勵(lì)頻率的增大,氣膜的承載力、剛度系數(shù)及阻尼系數(shù)都在增

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