大尺寸單晶硅反射鏡超精密連續(xù)拋光和檢測的研究.pdf

1、隨著光學技術(shù)的發(fā)展，對光學元件的面形精度和表面粗糙度提出了越來越高的要求。同時隨著大型光學系統(tǒng)的開發(fā)和研制，對大尺寸高精度的光學元件需求越來越大。因此，對大尺寸精密光學元件的加工和檢測具有重要的意義。
　　 本文闡述了超精密光學元件加工及檢測的研究內(nèi)容、目的、背景及國內(nèi)外研究概況。從理論和實驗兩個方面對連續(xù)拋光技術(shù)進行了研究。首先分析了連續(xù)拋光中各參量對拋光效果的影響，總結(jié)了連續(xù)拋光技術(shù)的主要問題，通過實驗具體分析了拋光過程中拋

2、光盤硬度、拋光時間和溫升三個參量對拋光精度的影響，并結(jié)合單晶硅拋光特點，改良技術(shù)，編排合理的實驗路線，連續(xù)拋光得到的單晶硅反射鏡基底平面PV值為0.403λ，表面粗糙度(RMS)為0.456nm，達到了超精密加工的要求。
　　 同時，介紹了超精密光學元件的各種檢測方法。針對高能激光系統(tǒng)中高反射率腔鏡的反射率測量問題，著重對光腔衰蕩技術(shù)進行了概述和研究，介紹了光腔衰蕩法測反射率的原理，討論了一些主要誤差因素對測量精度的影響。并設(shè)計