PECVD-SiNx鈍化減反射特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、作為一種器件表面介質(zhì)膜，SiNx薄膜已被廣泛應用于IC以及太陽能光伏器件的制造中。在高效太陽能電池研究中，發(fā)射結表面鈍化和減反射一直是其研究的主題。電池正面發(fā)射結不僅要求表面鈍化層有優(yōu)良的鈍化性能，同時也要求介質(zhì)層能夠與表面層減反射膜一起產(chǎn)生很好的減反射效果，從而進一步提高太陽電池器件的光生電流、開路電壓以及電池效率. 本文闡述了高效太陽電池研究中正面發(fā)射結上的鈍化與減反射工藝與原理，重點對PECVD法制備SiNx的鈍化機制，表

2、面場鈍化和H鈍化進行了詳細的分析。人們研究SiNx的鈍化性能一般是在N+/P/P+結構上對SiNx減反射和鈍化性能。為了比較清楚的了解SiNx鈍化工藝在太陽電池鈍化中所起的作用，針對影響SiNx薄膜性能的主要參數(shù)(NH3/SiH4,襯底溫度，電源輸入功率)。在P型雙面擴磷的N+/p/N+對稱結構上，對SiNx薄膜的鈍化和減反射性能進行了理論模擬和實驗研究。 通過研究沉積參數(shù)NH3/SiH4流量比對SiNx薄膜光學和電學鈍化性能的

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