周期層片型結(jié)構(gòu)形成機(jī)理的研究.pdf

1、周期層片型結(jié)構(gòu)首先被Osinski于1982年在固態(tài)擴(kuò)散偶中發(fā)現(xiàn)。之后，人們陸續(xù)在多種擴(kuò)散偶體系中發(fā)現(xiàn)了這一有趣的結(jié)構(gòu)，這極大的引起了學(xué)者們的關(guān)注和興趣，并提出了不同的解釋理論。不過，到目前為止并未出現(xiàn)學(xué)術(shù)界普遍接受的解釋理論，周期層片型結(jié)構(gòu)的形成機(jī)理依然存在著爭(zhēng)議。本論文在測(cè)定Zn-Ni-Si三元系富鋅角450℃相平衡的基礎(chǔ)上，開展擴(kuò)散偶實(shí)驗(yàn)，分析了周期層片型結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)規(guī)律，提出了周期層片型結(jié)構(gòu)的形成機(jī)理。
　　 本工作通過平衡

2、合金法，利用掃描電鏡與能譜儀（SEM-EDS）以及X射線衍射儀（XRD）等手段測(cè)定了Zn-Ni-Si 三元系富鋅角450℃的等溫截面。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)：該截面出現(xiàn)一個(gè)三元相T（Ni2Zn3Si），相圖包含有4個(gè)三相區(qū)：Liq.+NiSi2+Si、Liq.+NiSi2+T、Liq+δ+T和δ+γ+T；9個(gè)兩相區(qū)：Liq.+Si、Liq.+NiSi2、NiSi2+Si、Liq.+T、NiSi2+T、Liq.+δ、δ+T、δ+γ和γ+T；6個(gè)單相區(qū)：

3、Liq.、(Si)、NiSi2、T、δ和γ。
　　 開展了擴(kuò)散偶實(shí)驗(yàn)，在Zn/Fe3Si、Zn/Ni3Si固態(tài)擴(kuò)散偶以及Zn/Ni3Si液固擴(kuò)散偶觀察到周期層片型結(jié)構(gòu)的出現(xiàn)。通過SEM-EDS技術(shù)分析，Zn/Fe3Si擴(kuò)散偶中出現(xiàn)的周期層片結(jié)構(gòu)由FeSi相和FeZn13相（或FeZn10相）雙相構(gòu)成，Zn/Ni3Si擴(kuò)散偶中出現(xiàn)的周期層片結(jié)構(gòu)由γ相和T相（Ni2Zn3Si）雙相構(gòu)成。Zn的物質(zhì)狀態(tài)并不影響周期層片型結(jié)構(gòu)的形成。<