基于基片集成人工介質(zhì)結(jié)構(gòu)的帶通濾波器研究.pdf

1、伴隨著無(wú)線(xiàn)通信技術(shù)的迅猛發(fā)展,微波電子設(shè)備和電路日益趨向輕量化、小型化和低成本,對(duì)新結(jié)構(gòu)、新材料和新工藝的研究成為當(dāng)今世界的一個(gè)研究熱點(diǎn)。人工電介質(zhì)結(jié)構(gòu)是通過(guò)在自然界已存在的電介質(zhì)中摻雜一些金屬顆粒,來(lái)改變其電磁特性,進(jìn)而形成滿(mǎn)足特定需要的一類(lèi)人工介質(zhì)?；扇斯そ橘|(zhì)結(jié)構(gòu)是在2007年由學(xué)者提出的,它是通過(guò)在微帶線(xiàn)結(jié)構(gòu)的介質(zhì)基片中加入金屬柱,從而增大了微帶線(xiàn)的分布電容,導(dǎo)致了微帶電路的特性阻抗減小而有效介電常數(shù)增大,進(jìn)而能夠使微帶線(xiàn)的

2、寬度減小、導(dǎo)波波長(zhǎng)縮短,從而達(dá)到電路小型化的目的。
　　 首先,本文簡(jiǎn)單介紹了基片集成人工介質(zhì)結(jié)構(gòu)和局部基片集成人工介質(zhì)結(jié)構(gòu)的基本原理及特性,并從傳輸線(xiàn)的角度分析了該結(jié)構(gòu)的基本特性。
　　 然后,通過(guò)曲線(xiàn)擬合和“合成漸近”法獲得了簡(jiǎn)單L-SLAD結(jié)構(gòu)微帶線(xiàn)的分布電容公式和特性阻抗公式。與Ansoft Q3d軟件提取出的結(jié)果相對(duì)比,該公式的最大誤差小于3％,平均誤差小于2%。
　　 最后,研究了L-SIAD結(jié)構(gòu)在微