電流、磁場(chǎng)作用下C19400合金時(shí)效行為研究.pdf

1、近年來(lái)，隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展，集成電路向高密度、小型化、多功能化發(fā)展，對(duì)集成電路用引線框架材料的綜合性能要求越來(lái)越高。C19400合金是目前應(yīng)用最廣泛的引線框架材料，它是一種具有開(kāi)發(fā)前景的高強(qiáng)高導(dǎo)銅合金，深入研究合金的固溶時(shí)效析出行為、探索新的制備及加工處理技術(shù)來(lái)提高合金的強(qiáng)度和導(dǎo)電性等性能具有重要意義。
　　本文將電流和磁場(chǎng)應(yīng)用在C19400合金的時(shí)效過(guò)程中，利用金相、掃描電鏡、X射線衍射及透射電鏡觀察分析合金鑄態(tài)組織和電

2、流、磁場(chǎng)對(duì)合金時(shí)效組織的影響，通過(guò)導(dǎo)電率和抗拉強(qiáng)度檢測(cè)來(lái)探究電流、磁場(chǎng)在改善合金性能方面的作用。通過(guò)研究所得的主要結(jié)論如下:
　　1.C19400合金的鑄態(tài)組織由α-Cu和Fe2P相組成，α-Cu呈等軸晶形態(tài)，F(xiàn)e2P相分布在α-Cu的晶界處。
　　2.C19400合金的強(qiáng)化相有兩種分別為大尺寸的Fe2P和小尺寸的單質(zhì)Fe。合金時(shí)效過(guò)程中施加脈沖電流和強(qiáng)磁場(chǎng)作用，析出相種類未發(fā)生變化，尺寸減小，數(shù)目增多。
　　3.脈沖

3、電流對(duì)時(shí)效過(guò)程有促進(jìn)作用。C19400合金經(jīng)脈沖電流時(shí)效后，隨著脈沖電流時(shí)效時(shí)間和時(shí)效溫度的增加，合金的導(dǎo)電率不斷增加，抗拉強(qiáng)度達(dá)到峰值后略有下降;隨著電流密度的增加，合金的導(dǎo)電率逐漸增加，強(qiáng)度先增加，達(dá)到峰值后下降。合金時(shí)效中施加頻率為500Hz，電流密度為300A/cm2，于450℃下進(jìn)行脈沖電流時(shí)效4h后抗拉強(qiáng)度達(dá)到峰值453.7MPa，對(duì)應(yīng)的導(dǎo)電率為55.6％IACS。
　　4.冷變形+脈沖電流時(shí)效能夠進(jìn)一步提高C1940

4、0合金導(dǎo)電率和強(qiáng)度。變形量越大，提升效果越明顯。當(dāng)70％冷變形后合金在電流密度為300A/cm2的脈沖電流作用下于450℃時(shí)效4h后，導(dǎo)電率達(dá)到61.5％IACS，抗拉強(qiáng)度達(dá)到584MPa。
　　5.強(qiáng)磁場(chǎng)對(duì)時(shí)效過(guò)程有促進(jìn)作用。C19400合金經(jīng)磁場(chǎng)時(shí)效后，隨著強(qiáng)磁場(chǎng)時(shí)效時(shí)間和溫度的增加，合金的導(dǎo)電率不斷增加，抗拉強(qiáng)度達(dá)到峰值后略有下降。合金時(shí)效中施加磁場(chǎng)強(qiáng)度為12T，于450℃下進(jìn)行磁場(chǎng)時(shí)效4h后抗拉強(qiáng)度達(dá)到峰值480MPa，對(duì)