光通信中集成蝕刻衍射光柵波分復(fù)用器的研究.pdf

1、隨著社會邁向信息時代,人們對信息的需求急劇增加,對通信容量提出越來越高的要求.密集波分復(fù)用是最經(jīng)濟有效地解決通訊網(wǎng)絡(luò)容量問題的技術(shù).實現(xiàn)波分復(fù)用的核心器件是波分復(fù)用器.蝕刻衍射光柵是采用平面波導技術(shù)制成的集成密集波分復(fù)用器件,它具有信道損耗低、串擾小、器件尺寸小、容易擴展信道、制作和封裝工藝相對簡單等優(yōu)點.該論文以用于光通信中的平面集成蝕刻衍射光柵為研究對象,具體的分析了的它的工作原理和設(shè)計思想,并給出了設(shè)計中的經(jīng)驗和方法.器件設(shè)計后需

2、要進行性能計算和模擬以減小復(fù)雜的集成光器件制作試驗,該論文描述了計算蝕刻衍射光柵比較準確的模擬方法,其結(jié)果能夠很好的接近實際情況.基于這樣的模擬計算方法,該論文提出了改進蝕刻衍射光柵設(shè)計的幾種方法:1.光柵的兩點法設(shè)計.這個方法很好的減小了像差,提高了成像質(zhì)量;2.平場輸出蝕刻衍射光柵的設(shè)計.這個設(shè)計可以省略輸出波導,大大降低制造復(fù)雜度;3.輸出頻譜的平坦化設(shè)計.設(shè)計改變了器件的輸出頻譜,很大的降低了對系統(tǒng)其它器件的要求.4.低回損蝕刻

3、衍射光柵的設(shè)計.設(shè)計最大程度的提高了器件的回損性能,適合更嚴格的要求.對設(shè)計好的集成波導器件,該論文設(shè)計并試驗了器件的制作的全部工藝,包括波導薄膜的沉積,掩模的設(shè)計制作,光刻,濺射金屬薄膜,剝離法制作金屬掩模,干法深刻蝕,硅片切割,端面磨拋,波導對準和性能測試.最后該文實現(xiàn)了器件樣品的制作.器件制作的工藝流程中該文重點研究了基于半導體技術(shù)的二氧化硅薄膜沉積技術(shù).波導薄膜是器件的基礎(chǔ),其光學性能很大程度決定了器件性能.這里基于國產(chǎn)設(shè)備進行