太陽(yáng)光譜選擇性吸收復(fù)合涂層的制備與性能研究.pdf

1、分類號(hào)UDC密級(jí)學(xué)校代碼!Q壘窆!武多萎理歹大署學(xué)位論文題目態(tài)!旦絲迸造捶：絲叢叢復(fù)金途星鮑劍查魚(yú)：絲絲盟窺英文Studyonpreparationandpropertiesofsolarselectiveabsorption是匠目魚(yú)Q!墮衛(wèi)Q墨i絲曼Q絲i壘g墨研究生姓名互堡姓名堡墊盔職稱鏊撞學(xué)位譴指導(dǎo)教師單位名稱塹撾塹郵編壘三QQ2Q申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別三堂亟學(xué)科專業(yè)名稱鹽盤鱟論文提交日期2Q!!生璺旦論文答辯日期2Q!!生月學(xué)位授予單位惑

2、墨壟墨盤塋學(xué)位授予日期答辯委員會(huì)主席——評(píng)閱人2011年5月種形式的能量加以利用。其中，光熱轉(zhuǎn)換技術(shù)被廣泛地應(yīng)用于太陽(yáng)能集熱器上，太陽(yáng)能吸收表面是集熱器的關(guān)鍵組成部分。盡可能多的對(duì)太陽(yáng)輻射進(jìn)行吸收并將其保住而不散失對(duì)吸收層來(lái)說(shuō)非常的重要，而選擇性吸收層因?yàn)榭梢杂懈叩奶?yáng)吸收和低的熱輻射而滿足要求。目前，制備太陽(yáng)光譜選擇性吸收涂層的各種方法在實(shí)際應(yīng)用中都存在一定的局限性，因此尋求一種操作簡(jiǎn)便、設(shè)備要求低、成本低廉的容易實(shí)現(xiàn)工業(yè)化大批量生產(chǎn)

3、的方法來(lái)制備光學(xué)性能較好的選擇性吸收涂層成為目前太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)最迫切的需要。在所有的選擇性吸收機(jī)制中，在具有高的紅外反射特性的金屬基體表面制備一層復(fù)合涂層將是一個(gè)最靈活、最容易控制及實(shí)現(xiàn)的方法，而且復(fù)合涂層的光學(xué)性能可以方便地通過(guò)改變其厚度、組分體積分?jǐn)?shù)以及顆粒粒徑來(lái)得到改善。本文分別采用簡(jiǎn)單易行的等離子噴涂法、溶膠一凝膠法以及一種新型的選擇性吸收涂層制備方法一濕化學(xué)法對(duì)太陽(yáng)光譜選擇性吸收復(fù)合涂層進(jìn)行研制。應(yīng)用XRD、FTIR、EDS、和S

4、EM等測(cè)試手段對(duì)制備得到的光譜選擇性吸收涂層的結(jié)構(gòu)與表面形貌進(jìn)行了表征，采用Ⅳ3600型wVisNIR分光光度計(jì)和Tensor27型BRUKER紅外光譜儀對(duì)所制得涂層的光學(xué)性能進(jìn)行了分析研究。經(jīng)測(cè)試得，采用等離子噴涂技術(shù)在最佳的實(shí)驗(yàn)條件下制備得到的NiA1203金屬陶瓷復(fù)合涂層的吸收率a為O81，發(fā)射率￡為068，品質(zhì)因子約為119，選擇性吸收性能不佳；采用溶膠一凝膠浸漬提拉法在不銹鋼基體表面鍍制NiOA1203復(fù)合薄膜，在最佳實(shí)驗(yàn)條件

5、下制備得到的薄膜的吸收率a為076，發(fā)射率￡為025，品質(zhì)因子ct／e達(dá)到3。在該薄膜表面加鍍Si02減反層后，膜系的吸收率達(dá)到084，發(fā)射率為O30，使整個(gè)表面的吸收性能得到提高：采用一種新的制膜技術(shù)一濕化學(xué)法在不銹鋼基體表面鍍制NiNiOA1203復(fù)合薄膜，在最佳實(shí)驗(yàn)條件下制備得到的薄膜的吸收率a為085，發(fā)射率￡為012，品質(zhì)因子。池約為71，選擇性吸收性能達(dá)到最佳。在該薄膜表面加鍍Si02減反層后，膜系的吸收率達(dá)到O93，發(fā)射率