ITO熱鏡膜研究-制備及光學和熱輻射性質導電膜及金屬的光譜定向發(fā)射率的理論推算.pdf

1、該論文分成二個部分。第一部分是關于在黑色聚合物襯底上沉積單層ITO(IndiumTinOxides)熱鏡膜制備太陽能選擇性吸收表面的研究。ITO薄膜是一種半導體透明導電薄膜，具有很廣的應用背景。若將ITO熱鏡膜沉積在黑色聚合物底襯上以制備光譜選擇性吸收表面，其突出優(yōu)點是不需要發(fā)射率很低的金屬做襯底。由于可采用柔性聚合物作為底襯，所以能降低太陽能選擇性吸收表面的成本，有利于在太陽能熱利用領域推廣應用選擇性吸收表面。作者在第一部分研究了采用

2、普通和磁控濺射法制備ITO熱鏡膜的工藝以及制備工藝對ITO熱鏡膜的光學和熱輻射性能的影響。第二部分是關于金屬Al和Cu的光譜定向發(fā)射率的理論推算的研究。在該論文第二部分的工作中，作者針對在Fresnel公式中用Haugen-Rubens關系來預測金屬的熱輻射性質存在的問題，推導出了描述Drude模型中金屬弛豫頻率γ的表達式，據此提出了改進金屬的長波熱輻射性質的預測的D-R法。給出了D-R法、Hagen-Rubens關系式和n=k的假設對

3、金屬Al的定向發(fā)射率的理論預測結果，并將預測結果與Schmidt和Eckert的實驗測量值進行對比。對比結果顯示了D-R法的準確性，而無論是Hagen-Rubens關系式還是n=k的假設都會導致金屬Al的長波熱輻射性質預測與實驗結果的明顯偏差。作者也給出了金屬Al在773K和金屬Cu在293K的法向發(fā)射率以及Cu在4μm的光譜法向發(fā)射率的理論預測與實驗結果的結比，對比結果同樣顯示了D-R法的準確性。作者還給出了金屬Cu的光譜定向發(fā)射率的