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1、不銹鋼在模擬冷卻水中不產(chǎn)生點(diǎn)蝕的[Cl<'-1>]/[SO<,4><'2->]比值為0.42,當(dāng)[Cl<'-1>]/[SO<,4><'2->]≥0.56時(shí),點(diǎn)蝕電位隨氯離子濃度的增加逐漸下降.硫離子對(duì)模擬冷卻水中不銹鋼電極的點(diǎn)蝕電位影響較小,但可使不銹鋼電極的鈍態(tài)電流增大.加入9mg/l硫離子時(shí),鈍態(tài)電流比無硫離子體系增大了近一倍.說明硫離子降低了不銹鋼鈍化膜的保護(hù)性能.水體中硝酸根離子對(duì)不銹鋼的點(diǎn)蝕有緩蝕作用.水溫升高可使不銹鋼的點(diǎn)蝕
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