高頻脈沖電鍍鎳--納米二氧化鈦復(fù)合鍍層光催化性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、納米復(fù)合電沉積是在鍍液中加人納米固體顆粒，通過與金屬共沉積獲得鍍層，從而使鍍層復(fù)合了納米材料的特異功能。納米TiO2具有很高的光催化活性，與鎳基共沉積可制備出具有高光催化活性的納米復(fù)合鍍層，因而Ni-納米TiO2復(fù)合鍍層在涂料、陶瓷、殺菌等方面有廣泛的應(yīng)用前景。目前人們對(duì)高頻脈沖電鍍的研究還較少，在本文的實(shí)驗(yàn)中實(shí)現(xiàn)了脈沖頻率達(dá)到120kHz的工藝條件。
　　 利用高頻脈沖電源制備出Ni-納米TiO2復(fù)合鍍層。通過正交實(shí)驗(yàn)法確定出

2、電鍍Ni-納米TiO2的最佳工藝參數(shù)。利用掃描電鏡(SEM)觀察了鍍層的表面形貌。驗(yàn)證了所得到的Ni-納米TiO2鍍層具有光催化性。對(duì)不同脈沖頻率的鍍層進(jìn)行了光催化性能的測試，研究了脈沖頻率和TiO2含量對(duì)光催化性的影響規(guī)律。結(jié)果表明：光催化性與鍍層中TiO2復(fù)合量的變化規(guī)律基本一致；脈沖頻率從20kHz到120kHz變化過程中，光催化性和TiO2復(fù)合量均先增后降，60kHz時(shí)得到的鍍層TiO2復(fù)合量最高，同時(shí)光催化性也最好。
　

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