STO-YBCO集成薄膜的脈沖激光沉積及性能研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩97頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、電子科技大學(xué)碩士學(xué)位論文STOYBCO集成薄膜的脈沖激光沉積及性能研究姓名:李德紅申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專業(yè):材料物理與化學(xué)指導(dǎo)教師:劉興釗李言榮20030301電子科技大學(xué)碩士論文AbstractThedielectricconstantofStTiO(STO)thinfilmsisvoltagedependentnearthecurietemperatureTc(about40K).Andnodispersionineisobserve

2、dinSTOatfrequenciesupto10GHz.YBa2Cu307(YBCO)hightemperaturesuperconductingthinfilmhasverylowmicrowavesurfaceresistance.ThetypicalvalueofRs(lOGHz77K)issmallerthanlm0.InadditionSimilaritiesincrystalstructureandchemicalcomp

3、atibilitybetweenSTOandYBCOopenupthepossibilitythattheuniquepropertiesofeachofthesefilmscanbecombinedtodevelopanarrayoftunablemicrowavedeviceswithnovelapplicationssuchasfiltersphaseshiftersandresonators.Themajortaskofthed

4、issertationisthegrowthofYBCOSTOforthefabricationofmicrowavedevices.TheSTOYBCOandSTOYBCOthinfilmsweredepositedonLaA103(001)(LAO)substratebypulsedlaserdeposition(PLD).Theefectsofdepositionparameterssuchasthesubstratetemper

5、aturetheoftargetsubstratedistancelaserenergydensityonthepropertiesofthethinfillmsweresystematicallystudied.Thesurfacemorphologyofthethinfilmswasinvestigatedbyatomicforcemicroscopy(APM)andscanningelectronmicroscopy(SEM).U

6、ndertheoptimizedconditionthesurfacesofthethinfilmsweresmooth.Therootmeansquareroughness(rms)ofSTOthinfilmwas0.77nmintherangeof10um.ThestepflowgrowthmodeofSTOthinfilmwasachieved.TheXraydifraction(XRD)resultsshowedthatboth

7、STOandYBCOthinfilmswerecaxisoriented.ThesuperconductingtransitionpropertiesofYBCOthinfilmswereexcellentTeo90KoTc1K.InordertodemonstratethedielectricpropertiesofSTOthinfilmthesandwichtypecapacitorsandinterdigitatedcapacit

8、orswerefabricated.ThepropertiesofcapacitorsweremeasuredusinganHP4284ALCRmeterat77Kunder100kHz.“Themeasurementresultsfromsandwichtypecapacitorsshowedthatthedielectricconstantdecreasedfrom1437to902whentheelectricalfieldinc

9、reasedfrom0to56kVcm.Thetunabilitywas38%andthedielectriclosswas1.06%.TheasymmetryontheC^Vcurvewasobserved.ItwasattributedtotheformationofseriescapacitancebytheSTOthinfilmsandtheinterfacebetweenSTOandthebottomelectrode.The

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論