軟x射線多層膜反射鏡的設(shè)計(jì)與制作.pdf

1、軟x射線多層膜反射鏡的出現(xiàn),是x光學(xué)的重大事件.它從根本上改變了傳統(tǒng)的掠入射反射x光的方法,使正入射反射x光成為可能,并極大的促進(jìn)了x光學(xué)的發(fā)展.由于軟x射線多層膜反射鏡具有高反射率和帶通濾波的特點(diǎn),x光學(xué)的各個(gè)領(lǐng)域?qū)χa(chǎn)生了強(qiáng)烈的需求.在軟x射線(1nm<λ<30nm)的長波長區(qū)域(10nm<λ<30nm),多層鏡的制作已經(jīng)成熟,例如:在13.4nm處反射率峰值達(dá)到66﹪.但在軟x射線短波段(λ<10nm)區(qū)域,實(shí)測反射率大大低于理論

2、設(shè)計(jì)的反射率,高反射率多層膜反射鏡的制作仍處于探索階段.該論文所完成的是在軟x射線短波段的五個(gè)波長處(最短波長為1.03nm),研制具有實(shí)用反射率的軟x射線多層膜反射鏡,并應(yīng)用于慣性約束核聚變(ICF)實(shí)驗(yàn)中的軟x光能譜測量.在ICF實(shí)驗(yàn)中,激光等離子體產(chǎn)生的x光主要分布在亞仟電子伏特區(qū)(0.1-1.5keV),它的總能量、能譜特征、發(fā)射時(shí)間過程和空間分布都是理論和實(shí)驗(yàn)極為關(guān)心的基本數(shù)據(jù).從而使x光能譜的測量成為ICF實(shí)驗(yàn)中的至關(guān)重要的

3、診斷內(nèi)容.在多層膜反射鏡的設(shè)計(jì)中,作者首先針對(duì)軟x射線的強(qiáng)烈吸收和弱反射的特性和材料的物理化學(xué)性質(zhì),選擇了多種可能的配對(duì)材料作為候選的配對(duì)材料.從薄膜光學(xué)理論的遞推法出發(fā),以Henke的散射因子為依據(jù),計(jì)算了候選材料的峰值反射率,從中得到了軟x射線短波段的五個(gè)波長處的最佳材料配對(duì).然后使用模擬退火算法作為優(yōu)化方法,對(duì)軟x多層鏡結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,得到了比較理想的設(shè)計(jì)結(jié)果.之后將適用于軟x射線波段的D.Stearns的散射理論應(yīng)用于軟x射

4、線多層膜反射鏡的粗糙界面的散射研究,并基于該理論提出了一種多層膜反射鏡的修改設(shè)計(jì)方法.用該方法確定了基底粗糙度的設(shè)計(jì)值,從而完成了多層膜反射鏡的設(shè)計(jì).根據(jù)多層膜的設(shè)計(jì)結(jié)果,我們采用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行了多層膜的沉積.在多層膜的淀積過程中,使用小角x射線衍射的方法對(duì)多層鏡進(jìn)行了反復(fù)的標(biāo)定,獲得了軟x射線短波段多層膜反射鏡沉積的優(yōu)化工藝參數(shù).并在此基礎(chǔ)上,完成了五個(gè)波長的多層鏡的淀積,多層膜的膜厚誤差僅為0.05nm.多層鏡反射率的測量是在中國