鎂及鎂合金薄液膜下腐蝕行為研究.pdf

1、利用動電位極化曲線、電化學(xué)阻抗譜、電化學(xué)噪聲及掃描電子顯微鏡(SEM)研究了純鎂、Mg—10Gd—2Y-0.5Zr(GW102K)鎂合金、A291D在不同厚度薄液膜下的腐蝕行為，同時(shí)對氧氣在純鎂在薄液膜下腐蝕過程中的作用及T4處理對A291D在薄液膜下腐蝕行為的影響進(jìn)行了探討。基于散粒噪聲和隨機(jī)理論，分別利用Weibull和Gumbel函數(shù)對純鎂和GW102K鎂合金腐蝕過程的電化學(xué)噪聲數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，并探討了純鎂和GW102K在薄液膜

2、下的腐蝕機(jī)制。 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：在薄液膜下，鎂及鎂合金腐蝕的陰極和陽極過程都受到了抑制，腐蝕類型比本體溶液下的更趨于局部腐蝕。薄液膜和本體溶液下純鎂及其合金腐蝕的陰極過程都受氫還原控制，陰極過程隨著液膜厚度的減小而變緩。氧氣的存在使純鎂腐蝕陰極過程和陽極過程都減緩，但對陰極過程的抑制作用并不明顯，而對陽極過程的抑制作用很明顯。與本體溶液相比，薄液膜對純鎂腐蝕的陽極過程有正反兩方面的作用。一方面，薄液膜使點(diǎn)蝕的孕育速度減緩，腐蝕事件