BDD-Ti多孔復合膜制備關鍵技術研究.pdf

1、金剛石薄膜材料由于其優(yōu)異的物理和化學特性而被社會廣泛關注，特別是近些年，作為一種新型的電極材料，在有機廢水處理方面顯現(xiàn)出良好效果，有著其他工作電極無法比擬的優(yōu)點，如寬電勢窗口、高析氧電位、低背景電流等。
　　 金屬鈦板由于具有密度小、比強度高、工作溫度范圍寬、耐腐蝕性強等特性，做為基底來沉積摻硼金剛石薄膜成為一種新型電極越來越被人們所認可。本文在此基礎上，以多孔鈦作為基底，利用熱絲化學氣相沉積技術(HFCVD)制備摻硼金剛石薄膜

2、，形成了一種新型復合膜。
　　 制備過程中發(fā)現(xiàn)，由于基底的多孔特性以及粉末冶金燒結技術的原因，多孔基底本身存在較大的殘余張應力，再復合以HFCVD薄膜制備中引入的殘余應力，對膜基附著特性將產(chǎn)生很多不利影響，使薄膜和基底出現(xiàn)翹曲，降低金剛石薄膜承受載荷的能力，容易出現(xiàn)幾何尺寸的形變甚至碎裂;另一項顯著影響金剛石膜與多孔鈦附著特性的原因是疏松多孔結構的碳化鈦過渡層的形成。本文針對基底殘余應力和過渡層碳化鈦這兩項影響膜基附著特性的主要