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文檔簡(jiǎn)介
1、在TiAlN膜層的基礎(chǔ)上添加Nb元素制備TiAlNbN硬質(zhì)反應(yīng)膜,通過(guò)改變沉積工藝對(duì)TiAlNbN硬質(zhì)反應(yīng)膜的性能進(jìn)行探索。
采用多弧離子鍍技術(shù),使用Ti-50Al(at%)合金靶和Ti-25Nb(at%)合金靶在高速鋼基體上制備了TiAlNbN復(fù)合硬質(zhì)薄膜和TiAlNbN梯度硬質(zhì)薄膜。對(duì)兩種膜層的表面形貌、斷面形貌、表面成分和相結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)量和表征;測(cè)試分析了膜層硬度、膜/基附著力、摩擦磨損性能及650℃抗熱震性能。
2、 研究表明,兩種膜層的表面都比較均勻、致密,并隨著偏壓的增大,液滴數(shù)量減少。但TiAlNbN復(fù)合硬質(zhì)薄膜表面的液滴數(shù)量少于TiAlNbN梯度硬質(zhì)薄膜。在同樣工藝下,兩種膜層的表面液滴數(shù)量明顯少于TiAlN膜層的液滴數(shù)量,使TiAlNbN膜層的表面形貌得到很大改善;兩種膜層的厚度約為1.3~1.8um,膜層與基體之間沒(méi)有明顯的缺陷,膜層具有從基體到表面垂直生長(zhǎng)的柱狀晶組織,并且隨著偏壓的增大,厚度有所減小;兩種膜層的主要相結(jié)構(gòu)均為B1-N
3、aCl型的面心立方結(jié)構(gòu)TiN相,擇優(yōu)取向均為(111)面。
TiAlNbN復(fù)合硬質(zhì)薄膜硬度最高可達(dá)3000HV,膜基附著力在100N~110N。而TiAlNbN梯度硬質(zhì)薄膜的硬度最高可達(dá)3500HV,膜基附著力均在200N以上。兩種膜層在硬度及附著力方面均優(yōu)于TiAlN膜。
兩種TiAlNbN膜層的摩擦系數(shù)均小于0.5,在相同工藝下,半徑為5mm的磨損量明顯大于半徑為2.5mm的磨損量,并隨著偏壓的增大,磨損量減少,
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