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文檔簡介
1、超疏水表面在自然界和工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用,潤濕性是衡量超疏水表面疏水性強(qiáng)弱的重要指標(biāo)之一,主要由表面微觀結(jié)構(gòu)和表面化學(xué)組成共同決定。只改變固體表面化學(xué)成分,很難使表面達(dá)到超疏水的效果,因此通過表面形貌來控制表面潤濕性在超疏水表面的制備過程中起到了關(guān)鍵性作用。
本文以單晶硅片為基底,利用感應(yīng)耦合等離子體刻蝕技術(shù)(ICP),在硅片表面加工微米級微柱結(jié)構(gòu)陣列,隨后在其表面自組裝一層十八烷基三氯硅烷(OTS)分子膜,實(shí)現(xiàn)超
2、疏水。并應(yīng)用能量色散光譜儀(EDS)、電子隧道掃描顯微鏡(SEM)、三維激光共聚焦顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)和接觸角測量儀等設(shè)備分別對單純加工了微柱結(jié)構(gòu)陣列的硅片和加工了微柱結(jié)構(gòu)陣列并自組裝OTS分子膜的硅片進(jìn)行了表面形貌、化學(xué)成分和潤濕性的表征。通過原子力顯微鏡(AFM)研究了OTS分子膜的摩擦學(xué)性能。主要研究內(nèi)容歸納如下:
硅片表面加工微柱結(jié)構(gòu)陣列后,實(shí)現(xiàn)了從親水向疏水的轉(zhuǎn)變。硅片表面疏水性隨著微柱結(jié)構(gòu)尺寸的變化發(fā)
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