平面光波導衰減器的研究及工藝開發(fā).pdf

1、隨著寬帶城域網(wǎng)(BMAN)的大力建設,DWDM(密集波分復用)技術的廣泛使用,光通訊領域的重要應用前景和巨大的市場潛力變得清晰,具有對光信號的遠程和實時調控的特性的電控可變光衰減器(EVOA),引起了廣泛的重視。例如對于摻鉺光纖放大器的增益譜的均衡和在WDM(波分復用技術)系統(tǒng)中減小信號光以降低誤碼率,可變光衰減器都具有重要的地位。
　　本碩士論文對基于硅基微加工技術的電可調光衰減器的設計制作進行了研究,工作內容主要分為三個部分:

2、
　　1)通過對可變光衰減器不同設計結構優(yōu)劣的研究,根據(jù)現(xiàn)有的設備情況,提出以定向耦合器(DC)加相位差調制結構的產(chǎn)品設計。
　　2)在樣品生產(chǎn)前,對感應耦合等離子體刻蝕、上包層硼磷硅玻璃沉積工藝、芯層摻鍺二氧化硅沉積等關鍵工藝條件進行了研究,通過對影響工藝條件的關鍵參數(shù)進行反復試驗,對結果進行比對,最終找到了滿足設計工藝需求的最優(yōu)工藝條件,使得產(chǎn)品的關鍵工藝參數(shù)能很好地滿足設計要求,為樣品的順利制作打下了堅實基礎。