紡織鋼領真空電弧離子鍍設備的研究.pdf

1、離子鍍膜設備具有成膜速度快、所制膜層與基體結合力強和膜層更致密等優(yōu)點，因此在真空鍍膜設備中應用最為廣泛。本文旨在運用電弧離子鍍技術來實現(xiàn)鋼領的低溫鍍膜，并使所鍍制膜層更加均勻、致密。
　　衡量鍍膜工藝優(yōu)劣的重要標準是膜層的均勻性，一是要求膜層致密，二是要求大滴液數(shù)量減少。設計出一種帶可調(diào)磁場、屏蔽罩和特殊水冷機構的蒸發(fā)源，能有效提高膜層質(zhì)量。同時，加裝彎管磁過濾器，使離子在電磁場中改變運動軌跡，有效地過濾掉了大滴液。并通過實驗研究

2、，確定了設計參數(shù)，設計的蒸發(fā)源不僅實現(xiàn)了低溫鍍膜，也使鍍膜層質(zhì)量明顯提高。
　　為了確保鋼領在鍍制過程中，基體的溫度不超過GCr15鋼淬火后的回火最高溫度——200℃，通過對各個發(fā)熱源產(chǎn)熱量及真空室熱源分布等的計算分析，采用水直接噴淋蒸發(fā)源與水套直冷真空室的結構，實現(xiàn)了正常連續(xù)鍍膜工藝過程，鍍件基體溫度均勻控制的新低——170℃，確保了鋼領低溫電弧離子鍍膜工藝的實施。
　　依據(jù)真空設備設計準則和鍍制鋼領工藝要求，借助于Ans