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文檔簡(jiǎn)介
1、相對(duì)于傳統(tǒng)的玻璃微加工方法,玻璃噴砂微細(xì)加工工藝由于相對(duì)刻蝕效率高、成本低等優(yōu)點(diǎn),越來(lái)越受到重視。但是由于各種技術(shù)難題,噴砂微細(xì)刻蝕的制備效率仍不足。因此對(duì)于高效率的玻璃噴砂深刻蝕加工工藝的研究成為MEMS制造領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。
本文圍繞高可靠性的玻璃噴砂深刻蝕加工工藝展開(kāi)研究,主要研究工作如下:
首先,對(duì)噴砂刻蝕工藝中的關(guān)鍵技術(shù)因素展開(kāi)詳細(xì)分析。其一:掩膜材料的選取。在各種材料的塑性與脆性刻蝕機(jī)理分析基礎(chǔ)上,結(jié)合對(duì)銅
2、與PDMS材料性能的研究,合理設(shè)計(jì)四種新型掩膜結(jié)構(gòu)。其二:刻蝕參數(shù)的影響。通過(guò)對(duì)關(guān)鍵刻蝕參數(shù)對(duì)噴砂刻蝕影響的詳細(xì)研究分析,為接下來(lái)的噴砂實(shí)驗(yàn)提供理論指導(dǎo)。
其次,基于非硅微加工工藝,實(shí)驗(yàn)加工制備了四種新型結(jié)構(gòu)掩膜:金屬銅掩膜、柔性PDMS掩膜、帶銅柱鉚釘結(jié)構(gòu)的PDMS掩膜和基于銅和PDMS的雙層復(fù)合結(jié)構(gòu)掩膜。通過(guò)工藝設(shè)計(jì)改進(jìn)了銅與玻璃基底的結(jié)合強(qiáng)度,改進(jìn)掩膜結(jié)構(gòu)提高了刻蝕基片表面形貌完整度,摸索出了一套高可靠性和合格率的復(fù)合掩
3、膜制備新方法。
最后,對(duì)玻璃刻蝕微加工的基本規(guī)律進(jìn)行系統(tǒng)研究。全面探討優(yōu)化了PDMS材料的制備方案,分析各掩膜的耐刻蝕性能、刻蝕比、結(jié)合力等的性能表現(xiàn)。并且對(duì)圖形尺寸、砂材粒徑、空氣壓強(qiáng)對(duì)刻蝕效果的影響展開(kāi)深入研究。并優(yōu)化刻蝕參數(shù),實(shí)現(xiàn)了500μm深玻璃微通孔陣列的制備。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:P DMS雙組分溶劑按10:1質(zhì)量配比,在100℃、150℃、200℃環(huán)境中各熱聚合2h可獲取較好柔韌性;掩膜開(kāi)口孔徑從200μm增
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