2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩86頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、單晶硅表面制絨過(guò)程是太陽(yáng)能電池制備的一個(gè)重要處理過(guò)程。目前主要通過(guò)堿性腐蝕液對(duì)單晶硅片進(jìn)行刻蝕,使得硅表面形成金字塔結(jié)構(gòu)的絨面。本文通過(guò)薛定諤方程分析了表面形貌和表面缺陷態(tài)密度之間的關(guān)系,基于衰減的電子波函數(shù)基礎(chǔ)上,推導(dǎo)出在一維二維和三維方向上晶體發(fā)生中斷的表面的能帶和禁帶寬度與理想晶體能帶和禁帶寬度之間的關(guān)系,并通過(guò)表面形貌的調(diào)控將單晶硅表面金字塔結(jié)構(gòu)尖銳的塔尖和棱邊過(guò)渡到有圓弧的頂角和棱邊,將實(shí)驗(yàn)與理論分析相結(jié)合并對(duì)實(shí)驗(yàn)作出合理的解

2、釋。另外在傳統(tǒng)堿液刻蝕單晶硅表面的基礎(chǔ)上,本文研究了一元醇(乙醇),二元醇(乙二醇,丙二醇),乙醇鈉等醇類添加劑對(duì)單晶硅表面形貌的影響,并測(cè)試其反射率,發(fā)現(xiàn)在普通堿液中加入二元醇比加入一元醇具有更高的刻蝕速率,絨面金字塔成核較快。通過(guò)對(duì)絨面的分析,發(fā)現(xiàn)表面金字塔尺寸比較小,尺寸約為1~3μm且表面金字塔大小分布較均勻的絨面表面反射率較低,最低反射率可以降到10.13%,發(fā)現(xiàn)乙醇和乙二醇混合溶液對(duì)表面形貌具有較好的調(diào)控作用。
  實(shí)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論