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1、非均勻磁阻效應(yīng)(IMR)不僅在低磁場(chǎng)下具有與巨磁阻效應(yīng)(GMR)相媲美的磁敏感性,在高磁場(chǎng)下也具有線性磁阻效應(yīng),這些特性受到了科研工作者的廣泛關(guān)注,具有重大的研究意義和研究?jī)r(jià)值。本文研究了溫度和磁場(chǎng)等因素對(duì)n型硅和p型硅電輸運(yùn)性能的影響,得到了負(fù)微分電阻效應(yīng)、磁阻效應(yīng)以及開關(guān)效應(yīng)。
首先,研究分析了n型硅的電輸運(yùn)性能。研究發(fā)現(xiàn),在In/SiO2/n-Si/SiO2/In結(jié)構(gòu)器件中,常溫下電輸運(yùn)體現(xiàn)歐姆接觸性能,低溫下電輸運(yùn)
2、體現(xiàn)負(fù)微分電阻效應(yīng),這種性能的轉(zhuǎn)變是由表面氧化層的存在引起的。改變表面氧化層厚度,觀察到負(fù)微分電阻效應(yīng)的閾值電壓隨著氧化層的變薄而逐漸減小。阻抗分析測(cè)量表明,表面勢(shì)壘結(jié)處的分壓從常溫300k的16%,升高到低溫20k的91%。其機(jī)制是由于低溫下隧穿勢(shì)壘的增大,電子或者空穴隧穿通過表面氧化層的阻礙作用增大,當(dāng)外加電壓或者電流達(dá)到一定值后,發(fā)生雪崩效應(yīng),宏觀上表現(xiàn)為負(fù)微分電阻效應(yīng)。低溫20k時(shí)n型硅具有較好的磁敏感性能,在1T磁場(chǎng)下磁阻可以
3、達(dá)到130%,并且磁阻與磁場(chǎng)成線性關(guān)系。
其次,研究分析了p型硅的電輸運(yùn)性能。在In/SiO2/p-Si/SiO2/In結(jié)構(gòu)器件中,常溫下電輸運(yùn)體現(xiàn)歐姆接觸性能,低溫下電輸運(yùn)整體體現(xiàn)負(fù)微分電阻效應(yīng),電流為201uA時(shí),有一個(gè)突變的跳躍點(diǎn),呈現(xiàn)開關(guān)效應(yīng)。在外加磁場(chǎng)時(shí),磁阻隨外加磁場(chǎng)的增大而增大,且呈現(xiàn)線性關(guān)系。磁場(chǎng)為1T、溫度為10K時(shí),磁阻從31uA的30%升高到301uA的450%;磁場(chǎng)為1T、溫度為20K時(shí),磁阻從31
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