2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、面心立方結(jié)構(gòu)的TaNx材料因其優(yōu)越的物理、化學(xué)及機(jī)械性能(如高硬度、耐磨、化學(xué)惰性、熱穩(wěn)定性以及低的電阻溫度系數(shù)),現(xiàn)已在耐磨涂層、薄膜電阻以及集成電路中的擴(kuò)散勢壘等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。另外,TaNx薄膜又具有較高的超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度(6-10.5K)、較小的超導(dǎo)帶隙(~1.24meV)及低的費(fèi)米面態(tài)密度等特點(diǎn),因而在下一代超導(dǎo)納米線單光子探測器、金屬-絕緣體-超導(dǎo)體隧道結(jié)器件等領(lǐng)域有著潛在的應(yīng)用前景。
  本論文通過射頻磁控濺射的方法

2、,采用TaN靶,在石英玻璃基底上成功制備了系列面心立方結(jié)構(gòu)的多晶-TaNx薄膜,對薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、微觀形貌、電學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了系統(tǒng)研究,分析了濺射條件對薄膜結(jié)構(gòu)和電輸運(yùn)性質(zhì)的影響,并對TaNx薄膜在不同溫區(qū)的導(dǎo)電機(jī)制進(jìn)行了探討。
  在石英玻璃上通過改變基底溫度生長了系列面心立方結(jié)構(gòu)的TaNx多晶薄膜,X射線衍射及掃描電鏡形貌結(jié)果顯示,薄膜的平均晶粒尺寸隨基底溫度的升高逐漸增大。電輸運(yùn)測量結(jié)果表明,TaNx薄膜在~5K以下表現(xiàn)出類似超

3、導(dǎo)體-絕緣體顆粒膜的電輸運(yùn)性質(zhì);隨著溫度的升高,薄膜在10-30K表現(xiàn)出類似金屬-絕緣體顆粒膜的性質(zhì);在70K以上,熱漲落誘導(dǎo)的遂穿(FIT)導(dǎo)電機(jī)制主導(dǎo)著電阻率的溫度行為。因此,多晶TaNx薄膜的類顆粒膜屬性使其具有較高的電阻率和負(fù)的電阻溫度系數(shù)。
  在石英玻璃上通過改變氮分壓生長了系列TaNx薄膜,X射線衍射結(jié)果顯示薄膜為面心立方結(jié)構(gòu)。掃描電鏡形貌表征顯示TaNx薄膜具有類顆粒膜屬性,并且隨氮分壓的增加,薄膜的結(jié)晶質(zhì)量逐漸變

4、差,平均顆粒尺寸逐漸減小。電輸運(yùn)測量結(jié)果表明:在~5K以下溫區(qū),隨著氮分壓的增加,薄膜的絕緣體-超導(dǎo)轉(zhuǎn)變現(xiàn)象逐漸消失。在~10以上溫區(qū),薄膜的電阻率與溫度的關(guān)系存在明顯差異。對于在0.2%、0.4%、0.94%氮分壓下制備的TaNx薄膜,在10-350K整個(gè)溫區(qū)的電輸運(yùn)行為由FIT導(dǎo)電機(jī)制主導(dǎo);而對于5.39%和7.50%氮分壓下制備的TaNx薄膜,在50K以下的導(dǎo)電行為可用Mott的變程跳躍模型描述,而在50K以上,F(xiàn)IT導(dǎo)電機(jī)制仍主

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