不同硅含量鋁合金微弧氧化膜層的制備及耐磨耐腐蝕性能.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩93頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、鋁合金耐腐蝕耐磨損性能較差,為了使其在航空航天等對耐腐蝕耐磨損性要求較高的領(lǐng)域得到更廣泛的應(yīng)用,本文采用微弧氧化法在高硅含量環(huán)保鋁鑄鋁ADC12上制備出表面均勻耐腐蝕性能優(yōu)異陶瓷膜,在低硅含量鋁合金LD2上制備出表面均勻耐磨損性能優(yōu)異陶瓷膜,并對復(fù)雜形狀鋁合金微弧氧化膜層制備方法進(jìn)行探索。利用厚度儀、粗糙度儀、XRD、SEM、EDS等方法對膜層結(jié)構(gòu)組成進(jìn)行表征,分析了電流密度、占空比、頻率對膜層結(jié)構(gòu)組成的影響規(guī)律。利用電化學(xué)工作站及摩擦

2、磨損試驗機(jī)分別對膜層進(jìn)行耐腐蝕、耐磨損性能測試,探索膜層結(jié)構(gòu)組成對其耐腐蝕耐磨損性能的影響。
  高硅含量環(huán)保鋁鑄鋁ADC12陶瓷膜厚度、粗糙度隨電流密度、占空比增大而增大,隨頻率增大而減小,膜層物相組成主要為γ-Al2O3和少量α-Al2O3,膜層表面呈現(xiàn)細(xì)孔和少量凸起結(jié)構(gòu)。膜層表面越致密、越平整,表面微孔越小則膜層的耐腐蝕性能最好。膜層較厚其α-Al2O3含量較高,表面凸起較少則其耐腐蝕性能較好。優(yōu)化最佳工藝參數(shù)為電流密度10

3、A/dm2、占空比50%、頻率600Hz,氧化時間40min。該條件下所制陶瓷膜表面均勻致密,厚度為15μm左右,粗糙度為0.52μm,摩擦系數(shù)穩(wěn)定為0.2左右,其腐蝕電流為1.253×10-8A/cm2,相比于基體降低三個數(shù)量級。
  低硅含量鋁合金LD2陶瓷膜厚度、粗糙度隨電流密度、占空比、頻率增大而增大,陶瓷膜物相組成主要為α-Al2O3和少量γ-Al2O3,膜層表面呈“火山口”形貌。膜層表面越均勻致密,膜層越厚,其耐磨損性

4、能越好。優(yōu)化最佳工藝參數(shù)為電流密度10A/dm2、占空比50%、頻率100Hz,氧化時間60min。該條件下所陶瓷膜表面均勻致密,厚度達(dá)到50μm左右,摩擦系數(shù)為0.4,滑動摩擦3000m后膜層幾乎不再失重,其腐蝕電流為7.930×10-9A/cm2,相比于基體降低三個數(shù)量級。
  高硅鋁合金在高頻率600Hz,低硅鋁合金鋁合金在低頻100Hz制備出表面光潔致密的陶瓷膜,較好用于耐腐蝕耐磨損環(huán)境中。采用對形陰極法能在復(fù)雜鋁合金表面

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論