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文檔簡介
1、目前,高精密電子設(shè)備對電磁屏蔽要求越來越高。采用吸收電磁波方式進行屏蔽會造成電子設(shè)備發(fā)熱,而采用反射方式會產(chǎn)生次級電磁干擾。
本文基于引導(dǎo)電磁波“流動”的基本思想,對電磁屏蔽理論及結(jié)構(gòu)展開了研究。在第二章中,本文基于坐標(biāo)變換理論計算了不同空間及不同坐標(biāo)系組合下材料本構(gòu)參數(shù)。第三章則提出了基于頂點控制法的任意多邊形隱身屏蔽設(shè)計方法,采用三角形分割圖元,通過多邊形頂點逐一在分割圖元中進行坐標(biāo)變換,并嚴格推導(dǎo)了將電磁場完美地從屏蔽區(qū)
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