基于ZnO納米結(jié)構(gòu)電阻式紫外探測(cè)器的研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩60頁(yè)未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、氧化鋅(ZnO)是一種短波長(zhǎng)、寬帶隙的光電材料,其外延生長(zhǎng)溫度低、成本低、易刻蝕而使后工藝加工方便等優(yōu)點(diǎn),在發(fā)光二極管、激光器、紫外探測(cè)器等領(lǐng)域有非常廣泛的應(yīng)用。本文采用了“熱分解法”,合成了 ZnO納米晶,用噴涂的方法制備了 ZnO納米結(jié)構(gòu)薄膜,構(gòu)筑了電阻式光探測(cè)器,系統(tǒng)地研究了退火溫度與探測(cè)性能之間的聯(lián)系,探索了用 AgBiS2量子點(diǎn)敏化ZnO納米晶薄膜對(duì)探測(cè)器件性能的影響,主要研究結(jié)果如下:
  1. ZnO納米晶上敏化 A

2、gBiS2量子點(diǎn)的光探測(cè)器的構(gòu)建:利用Zn(CH3COO)2熱分解的方法在普通玻璃上沉積一層厚度約為754 nm的 ZnO薄膜,發(fā)現(xiàn)決定 ZnO薄膜的光探測(cè)性能的關(guān)鍵是沉積后的熱處理過(guò)程;利用噴涂的方法,用單分散的 AgBiS2量子點(diǎn)敏化 ZnO納米晶,發(fā)現(xiàn)決定探測(cè)器性能的關(guān)鍵因素在于噴涂 AgBiS2的次數(shù);
  2. AgBiS2量子點(diǎn)敏化 ZnO納米結(jié)構(gòu)光探測(cè)器件的界面處理:利用Ligand-Exchange的方法對(duì) AgB

3、iS2量子點(diǎn)表面進(jìn)行處理,我們發(fā)現(xiàn)離子置換處理后的 AgBiS2量子點(diǎn)用于敏化 ZnO納米結(jié)構(gòu)的探測(cè)器件時(shí),更有利于光生載流子的傳輸,結(jié)果離子置換后的 AgBiS2量子點(diǎn)敏化 ZnO的復(fù)合探測(cè)器件的光探測(cè)能力比 ZnO單獨(dú)的探測(cè)器件增強(qiáng)一倍。
  3. AgBiS2量子點(diǎn)敏化 ZnO納米結(jié)構(gòu)光探測(cè)器件的穩(wěn)定性:經(jīng)過(guò)10 min光照→10 min暗態(tài)2循環(huán)后,發(fā)現(xiàn)探測(cè)器仍能有較好的重復(fù)性,光電流和暗電流都會(huì)升高和下降至約同一電流值。

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論