氧化鎂摻雜六硼化鑭放電材料研究.pdf

1、等離子體顯示器（PDP，Plasma Display panel），是一種采用氣體放電，主動發(fā)光的顯示技術(shù)，相對于其他顯示器PDP有許多優(yōu)點：屏幕薄、重量輕、亮度高、響應(yīng)速度快、灰度等級高，同時內(nèi)部結(jié)構(gòu)簡單，工藝方便，適合批量生產(chǎn)。但是PDP功耗偏高，在節(jié)能環(huán)保的今天不利于PDP的發(fā)展。所以本文從PDP的保護(hù)層出發(fā)，改變其原有的保護(hù)結(jié)構(gòu)，在原單一MgO保護(hù)層上鍍上復(fù)合薄膜，提高薄膜的二次電子發(fā)射系數(shù)，降低放電延遲時間，提高PDP的放電效

2、率（提升屏幕亮度）。根據(jù)國際上的研究成果，本文采用射頻濺射的方法在 AC-PDP前基板上鍍上MgO-LaB6復(fù)合薄膜。
　　1、通過改變?yōu)R射時間和濺射功率來研究射頻濺射對 LaB6薄膜的影響。測試發(fā)現(xiàn)隨著濺射功率的增加LaB6薄膜（100）晶向得到充分的生長，保證了LaB6優(yōu)秀的放電特性。在延長濺射時間時發(fā)現(xiàn)，磁控濺射鍍膜時膜的厚度不與時間成正比關(guān)系，時間越長薄膜生長越緩慢。另外經(jīng)由XPS測試得出，腔體內(nèi)氧含量較少的情況下，LaB

3、6成分不會被改變。
　　2、課題探索了在不同濺射功率和不同 LaB6摻雜比例下薄膜的性能，發(fā)現(xiàn)摻雜LaB6質(zhì)量比為3％的靶材（MgO-LaB6）在100W功率下薄膜的生長較好，透過率也比較理想。從復(fù)合薄膜的XPS分析中得出，薄膜中La元素和B元素存在間隙到MgO結(jié)構(gòu)中的可能。
　　3、通過對測試裝置的闡述，分析了采用雙向脈沖控制電源的原因，同時也提出了電源在測試薄膜放電時存在的一些問題和大致解決方法，從中可以發(fā)現(xiàn)電路的設(shè)計會

4、影響 AC-PDP的功耗。隨后，課題對基片老煉進(jìn)行了分析研究，得出合理的老煉方法有利于提高薄膜的放電特性。在輝光放電下，基片老煉10h后，基片薄膜表面得到穩(wěn)固，著火電壓降低并得到穩(wěn)定。
　　4、在不同 Xe氣濃度和不同氣體壓強(qiáng)下測試得出了優(yōu)化后的工藝參數(shù)，濺射功率為100 W，MgO-LaB6靶材中LaB6的質(zhì)量比為3%，濺射時Ar:O2為80:5（單位sccm）。放電測試數(shù)據(jù)表明，在10%Xe-Ne，400torr氣壓下，雙層介