大腦額上溝計算斷層影像解剖學(xué)與三維可視化.pdf

1、研究背景：隨著顯微神經(jīng)外科的提高和神經(jīng)影像學(xué)的發(fā)展，立體定向技術(shù)已經(jīng)逐步應(yīng)用于臨床實踐中。其中利用影像斷層結(jié)合各個斷面探討疾病已經(jīng)不再新鮮，與此同時立體定向技術(shù)也成為功能神經(jīng)影像研究不可或缺的一部分。大腦額上溝雖然作為額葉變異度較大的一條腦溝，但對指導(dǎo)額葉手術(shù)入路的選擇仍有一定的意義。
　　額上溝位于額葉，位于額葉腦表面呈前后方向走行，與其相鄰的腦回是額上回和額中回。國內(nèi)外的學(xué)者主要通過識別中央前溝和額葉髓突發(fā)育的規(guī)律間接識別額上

2、溝，但是對于額上溝的精確的空間定位以及三維可視化研究并未報道。鑒于此，本研究采用40例健康成人的MRI腦圖像對于額上溝的形態(tài)、位置以及毗鄰進行了統(tǒng)計分析。基于大腦連合間徑中點為原點，以連合間徑與Y軸重疊建立笛卡爾三維坐標(biāo)系。采集額上溝的立體定位數(shù)據(jù)集，求得其在坐標(biāo)系中的平面回歸方程，構(gòu)建額上溝位于大腦中的三維可視化模型，以期對額上溝區(qū)域的臨床影像診斷以及微創(chuàng)神經(jīng)外科等提供量化的解剖學(xué)模型和資料。
　　第一部分大腦額上溝的MRI形態(tài)

3、學(xué)研究
　　目的：通過研究以AC-PC線為掃描基線的活體薄層MR圖像，探討大腦額上溝在橫斷面及冠狀面上的形態(tài)特征規(guī)律。
　　方法：男女各20例健康成年人的頭部MRI的薄層圖像，以連合間徑（AC-PC線）為掃面基線，在冠狀面、橫斷面、矢狀面行2mmTIMR掃描。于計算機中將掃面數(shù)據(jù)以Dicom3.0格式導(dǎo)入eFilm工作站。運用“3D-Cursor”和“連續(xù)追蹤法”尋找額上溝。并對額上溝位于腦表面的分段性進行研究。
　　

4、結(jié)果：可以對額上溝位于冠狀面以及矢狀面進行識別，并得出其形態(tài)學(xué)規(guī)律。并與冠狀面標(biāo)注了解剖結(jié)構(gòu)的名稱和對其分段性進行了討論。
　　結(jié)論：利用“3D-Cursor”和“連續(xù)追蹤法”技術(shù)結(jié)合額上溝的典型形態(tài)準(zhǔn)確識別了額上溝，為額上溝區(qū)域病灶定位和腦溝手術(shù)入路提供了解剖學(xué)依據(jù)。
　　第二部分大腦額上溝外側(cè)緣立體定位數(shù)據(jù)集的構(gòu)建及回歸分析
　　目的：求得額上溝最外緣位于笛卡爾三維坐標(biāo)系中的立體定位數(shù)據(jù)集以及對其進行回歸分析。

5、r>　　方法：40例健康成年人樣本的大腦橫斷面MRI數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化、導(dǎo)入Photoshop CS4軟件，以AC-PC線為Y軸建立笛卡爾三維坐標(biāo)系，對額上溝最外緣的X、Y、Z進行取值、記錄。
　　結(jié)果：取得健康成年男、女額上溝最外緣在大腦中的三維坐標(biāo)立體定位數(shù)據(jù)集以及額上溝最外緣位于橫斷面、矢狀面以及冠狀面上的投影分布、擬合曲線。
　?。?）在矢狀面的擬合方程
　　男性右側(cè)：Y=68.854-0.727Z-0.01Z2（r=0

6、.562，S=8.735， P<0.05）
　　女性右側(cè)：Y=7.632+1.906Z-0.3Z2（r=0.518，S=9.514， P<0.05）
　　男性左側(cè)：Y=26.584+1.214Z-0.23Z2（r=0.57，S=8.893， P<0.05）
　　女性左側(cè)：Y=37.194+0.688Z-0.17Z2（r=0.544，S=9.191， P<0.05）
　　（2）在冠狀面的擬合方程
　　男性右側(cè)

7、：Y=62.285+0.039Z+1.644Z2（r=0.282，S=6.638， P<0.05）
　　女性右側(cè)：Z=55.756+1.416X+0.042X2（r=0.329，S=6.53， P<0.05）
　　男性左側(cè)：Z=62.625-2.057X+0.058X2（r=0.262，S=6.692， P<0.05）
　　女性左側(cè)：Z=51.428-0.908X+0.03X2（r=0.284，S=6.537， P<0

8、.05）
　　（3）在橫斷面的擬合方程
　　男性右側(cè)：Y=21.756-1.151X-0.029X2（r=0.149，S=10.441， P>0.05）
　　女性右側(cè)：Y=0.821-0.74X-3.086X2（r=0.562，S=8.735， P<0.05）
　　男性左側(cè)：Y=-6.17+4.275X-6.17X2（r=0.248，S=10.485， P<0.05）
　　女性左側(cè)：Y=34.411+0.3

9、13X-0.19X2（r=0.216，S=10.694， P<0.05）
　　結(jié)論：額上溝最外緣回歸方程的系數(shù)在0.149至0.57之間，反映了額上溝的走行變異較大。
　　第三部分大腦額上溝的三維重建及可視化
　　目的：對額上溝、腦表面以及側(cè)腦室進行重建，為臨床、影像以及解剖教學(xué)提供可視化的模型。
　　方法：在計算機上將一例正常成年女性的顱腦冠狀位薄層MRI數(shù)據(jù)以Dicom3.0格式導(dǎo)入3D-Doctor軟件，對