多孔陽極氧化鋁厚膜的光學(xué)特性和金屬有序孔道陣列厚膜模板的制備.pdf

1、中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)碩士學(xué)位論文多孔陽極氧化鋁厚膜的光學(xué)特性和金屬有序孔道陣列厚膜模板的制備姓名：許彥旗申請學(xué)位級別：碩士專業(yè)：材料物理與化學(xué)指導(dǎo)教師：蔡維理2002.5.1t】上人，j壩I學(xué)7土論上摘醴H午，【16≈t學(xué)門結(jié)為樣品光吸l皮的卜降；而吸收頻率越高，光激發(fā)產(chǎn)生的電予一?！?，1(刈越t，J‘能分丌復(fù)合更可能是通過非輻射弛豫過程發(fā)生，所以高頻端激發(fā)設(shè)：缸下降。(4)m多孔氯化目j膜的光致發(fā)光譜r，，400111TI到600nm之問

2、有個(gè)較寬I’門發(fā)光，扎而h發(fā)光光譜捆對激發(fā)嘲詢低能畦方向有一較大位移，這是由于引虺發(fā))匕的缺陷能級俘獲空穴后，周圍的晶格z乏生畸變，產(chǎn)生一個(gè)帶隙中央的深能紱，，乜fIJI導(dǎo)帶躍遷到深能級缺陷：與，己穴復(fù)合時(shí)就輻射出光。(5)n空。e中退火處理的氧化鋁膜，發(fā)光峰的位置和形狀基本沒有變化，曲；度隨退火溫度的升高先增強(qiáng)后衰弱，在大約500℃熱處理時(shí)，發(fā)光強(qiáng)度達(dá)到飽1|=|1。我們認(rèn)為氧化鋁膜的發(fā)光是由缺陷氧空位引起的，在空氣中高溫退火時(shí)，鈑!

3、!位吲與氧氣復(fù)合而數(shù)量減少，同時(shí)熱處理也減少了作為非輻射復(fù)合中心的缺陷。當(dāng)熱處理溫度不是很高(Ta500℃)，氧氣與體系中氧空位的反應(yīng)活性較弱，非輻射復(fù)合中心的減少比氧空位數(shù)量的減少的速度快，相形之下，發(fā)光強(qiáng)度增大。隨熱處理溫度的進(jìn)一步升高，氧氣與氧空位的反應(yīng)變的活躍，體系中氧空位的數(shù)量加速減少，于是發(fā)光強(qiáng)度明顯減弱。(6)用電沉積法，通過二次復(fù)型，成功合成出了有序性很好的金屬鎳和氧化鋅多孔厚膜模板。詳細(xì)討論了制備過程中的工藝，作為母模