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文檔簡介
1、微電子封裝技術(shù)不斷朝著高密度、高可靠性的趨勢發(fā)展。在此背景下,三維(3D)封裝等先進封裝技術(shù)應(yīng)運而生,成為半導(dǎo)體技術(shù)以低成本延續(xù)摩爾定律的重要出路之一。3D封裝技術(shù)中微焊點尺寸不斷減小,導(dǎo)致電流密度的急劇增加,焦耳熱問題突出,一方面提高了微焊點的溫度,可能導(dǎo)致釬料熔化;另一方面,由于焦耳熱分布不均勻,在微焊點中易形成溫度梯度,從而引發(fā)金屬原子的熱遷移,影響微焊點界面反應(yīng)。本論文采用極具應(yīng)用前景的Sn-Zn和Sn-Cu無鉛釬料,研究Ni/
2、Sn-xZn/Ni和Ni/Sn-xCu/Ni微焊點在溫度為265 oC、溫度梯度為1304 oC/cm條件下釬焊時的界面反應(yīng),揭示Zn、Cu含量與熱遷移對界面IMC生長、演變以及Ni基體溶解行為的影響機制。研究表明:
?。?)Ni/Sn-xZn/Ni微焊點中,均發(fā)生冷、熱端界面IMC的非對稱生長和轉(zhuǎn)變,以及Ni基體的非對稱溶解現(xiàn)象。Zn含量顯著影響界面IMC的生長與演變,參與界面反應(yīng)的主要擴散元素在初始階段為Zn,在反應(yīng)后期為N
3、i和Sn。因此,隨著反應(yīng)的進行或Zn含量的降低,界面IMC的轉(zhuǎn)變順序為:Ni5Zn21??相?(Ni,Zn)3Sn4?Ni3Sn4,增加Zn含量可延緩界面IMC的轉(zhuǎn)變。冷端界面IMC的厚度始終大于熱端的,而熱端界面IMC轉(zhuǎn)變始終比冷端更快速、更充分,表明Zn和Ni原子均由熱端向冷端遷移。當釬料中Zn含量大于5 wt.%時,可顯著降低冷端界面IMC的生長速率和熱端Ni基體的溶解速率。
?。?)在Ni/Sn-0.3Cu/Ni微焊點中
4、,界面IMC始終為初始的(Ni,Cu)3Sn4,但出現(xiàn)冷端界面IMC厚度明顯大于熱端的非對稱生長現(xiàn)象;在Ni/Sn-0.7Cu/Ni和Ni/Sn-1.5Cu/Ni微焊點中,界面IMC逐漸由初始的(Cu,Ni)6Sn5轉(zhuǎn)變?yōu)?Ni,Cu)3Sn4,同時出現(xiàn)冷端滯后于熱端的非對稱轉(zhuǎn)變現(xiàn)象。微焊點中Cu含量的增加,使得冷、熱端界面IMC轉(zhuǎn)變均延緩。Cu和Ni原子的熱遷移方向均由熱端指向冷端,主熱遷移元素受到釬料中Cu含量的影響,隨著Cu含量的
5、降低,主熱遷移元素依次為Cu、Cu和Ni以及Ni。此外,熱遷移促進了熱端Ni原子向釬料中的擴散,加速了熱端Ni基體的溶解,溶解到釬料中的Ni原子大部分遷移到冷端并參與界面反應(yīng);相反,熱遷移顯著抑制了冷端 Ni原子的擴散,因此冷端Ni基體幾乎不溶解。
?。?)等溫回流下發(fā)生界面反應(yīng)時,Cu、Zn原子含量引起的界面 IMC的演變順序與熱遷移過程一樣,但兩側(cè)界面 IMC呈對稱性生長,IMC的生長與轉(zhuǎn)變均比熱遷移過程緩慢。熱遷移過程,冷
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