基于模塊化的保偏近場掃描光學(xué)顯微鏡近場探測及刻寫.pdf

1、美國、日本、德國等發(fā)達(dá)國家對納米探測、納米光刻技術(shù)十分重視，紛紛投入了大量的人力物力進(jìn)行研究開發(fā)，已經(jīng)取得了比較好的研究成果。而我們國家的近場掃描光學(xué)顯微鏡的研制還處于起步階段，目前儀器主要依賴進(jìn)口，我們在Topometrix的產(chǎn)品的基礎(chǔ)上，研制出了自己特色的“模塊化的保偏近場掃描光學(xué)顯微鏡”，我們制成的橫置的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，它的光學(xué)部分采用水平放置的光學(xué)系統(tǒng)，避免使用折射、反射元件避免光偏振態(tài)變化，同時(shí)采用短光纖探針避免由光纖傳輸引起的偏振

2、態(tài)變化。這種保偏型的SNOM可廣泛應(yīng)用于各向異性樣品的表征、局域光學(xué)偏振態(tài)探測和偏振光刻寫等研究領(lǐng)域。 本文結(jié)合國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目——“偶氮聚合物光致異構(gòu)轉(zhuǎn)化的近場觀測和定量分析(No.60377004)”的主要研究內(nèi)容，實(shí)現(xiàn)了光纖探針的小批量生產(chǎn)，完成了現(xiàn)有的近場掃描光學(xué)顯微鏡的改造，研制出了模塊化的保偏近場掃描光學(xué)顯微鏡，并使之適應(yīng)定量測量局域的光學(xué)各向異性，文章中給出了定量測量局域光學(xué)各向異性理論分析計(jì)算以及實(shí)驗(yàn)方法；為