MOCVD系統(tǒng)的自動控制研究——溫度、流量、壓力自動控制研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、液態(tài)源金屬有機物化學氣相沉積(LS-MOCVD)是利用液態(tài)金屬有機物為先體原料,在較低的溫度下獲得比其他常用的制備方法更致密、更均勻的金屬氧化物薄膜的一種薄膜沉積技術,在PZT。薄膜等多種鐵電薄膜的研究和制備中得到了廣泛的應用。 本文設計了以PLC為核心控制單元,觸摸屏作為人機交流平臺的先進、合理的LS-MOCVD自控系統(tǒng)整體方案,重點設計了系統(tǒng)中溫度、真空、氣流量等主要自動控制回路,完成了主要回路的軟件設計,并完成了設備硬件電

2、控部分的設計、安裝和調(diào)試。 本系統(tǒng)使用PLC的溫度控制單元CJ1W-TC001作為溫度控制回路的控制核心,以熱電偶為測溫元件。由溫控單元、固態(tài)繼電器等構成時間一比例:PID控制回路,配合溫控回路程序,實現(xiàn)了對系統(tǒng)四個溫控點的恒溫控制;同時使用溫度控制器AI-706M對超溫時實行保護控制,使得溫控回路安全可靠。經(jīng)實際測試,本回路溫度升降平穩(wěn),誤差在±2℃以內(nèi)。 設計了以D07-12A型質(zhì)量流量控制器(MFC)為測控器件,P

3、LC的A/D、D/A單元為數(shù)據(jù)處理的氣控回路,并設計了與之配合使用的程序,實現(xiàn)了對氧氣和氬氣流量精確的PID控制。氣流控制精度可達±1%。 使用匯流板配合PLC的開關量輸入輸出單元對真空管路中9個電磁閥的開關進行邏輯控制,從而自動控制真空管路的通斷以及反應室頂蓋的開合;使用全量程規(guī)對反應室的本底真空進行粗測量,使用精度更高的薄膜規(guī)測量反應室的工作真空度,通過智能壓力控制器比較薄膜規(guī)傳來的測量值和PLC傳輸來的設定值,實現(xiàn)蝶閥開度

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