版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、隨著工業(yè)的發(fā)展,大量的廢水廢物帶來嚴重的環(huán)境污染問題,而傳統(tǒng)的治理方法已不能滿足人們的需求,在治理過程中如何利用清潔能源、避免產(chǎn)生二次污染成為人們關注的熱點。光催化氧化技術能完全礦化目標污染物、無二次污染,從而在廢水治理領域有很好的應用前景。在眾多光催化劑中,WO3的禁帶寬度約為2.5eV,能吸收波長小于500nm的可見光,光轉(zhuǎn)換效率高。
本課題采用射頻反應磁控濺射法在玻璃基片上沉積了非晶態(tài)WO3薄膜,并探討了其光催化活性。采
2、用X射線衍射儀(XRD)、掃描隧道顯微鏡(STM)、X射線光電子能譜儀(XPS)等儀器對所制薄膜的結構、表面形貌及成分進行了分析。本實驗中,通過監(jiān)測薄膜在紫外光照射下對亞甲基藍和羅丹明B溶液的光降解過程,研究了制備工藝參數(shù)和Mo摻雜對WO3薄膜的光催化活性的影響。通過重復光催化降解實驗測定WO3薄膜的使用壽命,采用超聲去離子水洗的方法對失活薄膜進行活性再生。
研究結果表明:所制備的WO3薄膜和WO3:Mo薄膜均為非晶態(tài)結構,表
3、面為疏松結構。在W靶濺射功率為80W,氧氣流量為15SCCM,濺射時間為60min條件下制備的WO3薄膜具有最佳的光催化活性。WO3薄膜的厚度閾值為632nm,當薄膜厚度小于閾值時,其光催化活性隨著薄膜厚度的增加而增加;當薄膜厚度大于閾值時,光催化活性趨于穩(wěn)定。紫外光照3h后,WO3薄膜對亞甲基藍和羅丹明B溶液的最大降解率分別為83.26%和72.73%。重復使用3次后,新制WO3薄膜對亞甲基藍的降解率保持在75%以上,重復使用7次后,
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- WO3及其復合半導體催化劑的制備與光催化性能研究.pdf
- 非晶態(tài)TiO-,2--Cr(V)薄膜的制備及光催化性能研究.pdf
- 非晶態(tài)TiO-,2-:W薄膜的制備及光催化性能的研究.pdf
- 水熱與微波水熱法制備納米WO3及其光催化性能的研究.pdf
- 非晶態(tài)TiN-Ag-Cr-TiO2薄膜的制備與光催化性能研究.pdf
- WO3,W-Zn-O,W-La-O的制備及其光催化性能研究.pdf
- WO3薄膜電致變色器件的制備及性能研究.pdf
- 17272.石墨烯wo3納米催化劑的制備及其可見光催化性能的研究
- 13541.wo3tio2rgo復合光催化材料的制備及光催化性能研究
- 不銹鋼表面WO3納米片陣列薄膜的制備、改性及光電催化性能研究.pdf
- WO3基復合薄膜光電極的制備及性能研究.pdf
- 磁控濺射非晶態(tài)TiO-,2--Ag(Mo)薄膜的光催化性能研究.pdf
- 異質(zhì)復合TiO2及WO3的制備、表征及光催化抗菌研究.pdf
- 儲能型光電催化用納米多孔WO3薄膜的制備及性能.pdf
- WO3基可見光催化劑的制備及光降解性能的研究.pdf
- WO3納米晶體及WO3復合物的制備及其氣敏性能研究.pdf
- 非晶態(tài)TiO-,2--WO-,3-復合薄膜光催化活性的影響因素研究.pdf
- WO3納米材料的制備、表征及性能研究.pdf
- 鉑負載氫化WO3的光催化及儲能特性研究.pdf
- Cu2O-WO3復合光催化劑的制備及其光催化性能的研究.pdf
評論
0/150
提交評論